متن خبر

تعامل سه قطب صنعتی و دانشگاهی برای ارتقای نانومترولوژی

همکاری صنعت و دانشگاه منجر به ارائه روشی برای مشخصه‌یابی گرافن شده‌است؛ روشی که قابلیت استفاده در کارخانه‌ها را دارد.
تاریخ : 1396/06/02 تعداد بازدید : 66
سه مجموعه بزرگ و صاحب نام با همکاری یکدیگر موفق به ارائه سامانه اندازه‌گیری کوانتومی هال به‌منظور مشخصه‌یابی گرافن شدند. این سامانه به‌گونه‌ای طراحی شده که قابلیت استفاده در صنعت را دارد.
پروژه همکاری مشترک میان شرکت اکسفورد اینسترومنت (Oxford Instrument)، آزمایشگاه ملی فیزیک (NPL) و مؤسسه ملی گرافن در دانشگاه منچستر به پایان رسید. هدف این پروژه کار روی تعیین مشخصات گرافن و ارائه روش‌های مترولوژی مشخصه‌یابی سامانه‌های گرافنی بود که با موفقیت به پایان رسید.
حمایت مالی این پروژه توسط بنیاد نوآوری بریتانیا تأمین شده تا سامانه‌های تجاری اندازه‌گیری برای کاربردهای گرافن ارائه شود. از دیگر اهداف این پروژه می‌توان به کاهش هزینه‌های مشخصه‌یابی، کاهش زمان و پیچیدگی فرآیند اشاره کرد.
این سامانه‌ی اندازه‌گیری کوانتومی بی‌نیاز از سرمایش کرایوژنی و در میدان‌های مغناطیسی پایین می‌تواند برای کالیبراسیون مقاومت به کار گرفته شود. این فناوری برای آزمایشگاه‌های مترولوژی ملی و شرکت‌های صنعتی بسیار مناسب است.
یکی از مدیران شرکت آکسفورد اینسترومنتز می‌گوید: «این دستاورد اهمیت زیادی دارد که توسط یک کنسرسیوم به دست آمده است. این کنسرسیوم به دنبال اثبات امکان استفاده صنعتی از گرافن و مواد دو بعدی دیگر در سامانه‌های اندازه‌گیری کوانتومی تجاری است و می‌تواند به نوآوری‌های جدید در حوزه اندازه‌گیری استاندارد ختم شود.»
این سامانه اندازه‌گیری می‌تواند به‌صورت مستقیم در صنایع و کارخانه‌ها به کار گرفته شود و هزینه‌های کالیبراسیون را کاهش داده و در عین حال، دقت را در تجهیزات الکترونیکی بهبود دهد.